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    利用離子鍍弧源研發,效果是什么樣的?

    文章出處:網責任編輯:作者:人氣:-發表時間:2019-09-22 11:26:00 【

         應用于工具鍍膜的磁場控制的電弧離子鍍弧源,分析了其結構、工作原理以及弧斑運動、放電特性;比較了不同磁場輔助受控弧源的靶結構及磁場位形,并討論了對弧斑運動、放電及鍍膜工藝的影響;對磁場控制的電弧離子鍍弧源的發展進行了展望。
    弧源,弧源發展情況如何呢
      提高工具、模具的加工質量和使用壽命一直是人們不斷探索的課題。電弧離子鍍技術是一種工模具材料表面改性技術,具有離化率高、可低溫沉積、膜層質量好以及沉積速率快等其他鍍膜方式所不具備的優勢,已在現代工具以及各種模具的表面防護取得了理想的應用效果。但是,電弧放電導致的大顆粒存在限制了工模具涂層技術的進一步應用,也成為后期電弧離子鍍技術發展的主要論題。
    弧源,弧源發展情況如何呢
       離子鍍弧源是電弧等離子體放電的源頭,是離子鍍技術的關鍵部件。電弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源,這種弧源中電弧的行為被陰極表面許多快速游動、高度明亮的陰極斑點所控制。在發展和完善電弧離子鍍技術的過程中,對電弧陰極斑點運動的有效控制至關重要,因為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去除、薄膜質量的改善等諸多關鍵問題的解決。國內外一直致力于這方面的工作,研究熱點主要集中在磁場控制的弧源設計上。由于真空電弧的物理特性,外加電磁場是控制弧斑運動的有效方法,目前所有的磁場設計都是考慮在靶面形成一定的磁場位形,利用銳角法則限制弧斑的運動軌跡,利用橫向分量提高弧斑的運動速度。
     

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